Manipulateur de dépôt

La gamme EpiCentre de manipulateurs de dépôt utilise une technologie de conception et d’ingénierie de pointe pour donner un chauffage de substrat à haute température, uniforme et durable avec une manipulation précise dans des conditions ultravide réelles.

Les EpiCentres ont été conçus pour des applications de dépôt telles que la MBE (Molecular Beam Epitaxy), la pulvérisation et la CVD (Chemical Vapor Deposition). Le recuit du substrat, le dégazage et d’autres modifications de matériaux à haute température peuvent également être effectuées.

Les EpiCentres peuvent être montés dans n’importe quelle orientation pour s’adapter aux conceptions de chambre du client et aux configurations d’application.

Principales caractéristiques

• Choix de configurations en ligne, à angle droit et GLAD
• Chauffage du substrat à haute uniformité jusqu’à 1200°C
• Polarisation de substrat RF et DC avec plasma ultra-stable
• Rotation du substrat à 60 tr/min
• La conception modulaire permet une configuration spécifique à l’application
• Tailles de substrat jusqu’à 8″

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